သန့်စင်သော 99.8% တိုက်တေနီယမ်အဆင့် 7 ပတ်ပတ်လည် sputtering ပစ်မှတ်များ ti သတ္တုစပ်ပစ်မှတ် coating စက်ရုံပေးသွင်းသူများအတွက်
ထုတ်ကုန်ဘောင်များ
| ထုတ်ကုန်အမည် | pvd အပေါ်ယံပိုင်းစက်အတွက် တိုက်တေနီယမ်ပစ်မှတ် |
| တန်း | တိုက်တေနီယမ် (Gr1၊ Gr2၊ Gr5၊ Gr7၊GR12)အလွိုင်းပစ်မှတ်- Ti-Al၊ Ti-Cr၊ Ti-Zr စသည်တို့ |
| မူလ | Baoji မြို့ Shaanxi ပြည်နယ် တရုတ် |
| တိုက်တေနီယမ် ပါဝင်မှု | ≥99.5 (%) |
| အညစ်အကြေးအကြောင်းအရာ | <0.02 (%) |
| သိပ်သည်းဆ | 4.51 သို့မဟုတ် 4.50 g/cm3 |
| စံ | ASTM B381;ASTM F67၊ ASTM F136 |
| အရွယ်အစား | 1. အဝိုင်းပစ်မှတ်- Ø30--2000mm၊ အထူ 3.0mm--300mm;2. Plate Targe: အလျား- 200-500mm အနံ-100-230mm အထူ-3--40mm;3. Tube ပစ်မှတ်- Dia:30-200mm အထူ-5-20mm အလျား-500-2000mm;4. စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်နိုင်ပါသည်။ |
| နည်းပညာ | အတုနှင့် CNC စက်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသည်။ |
| လျှောက်လွှာ | Semiconductor ခွဲခြားခြင်း၊ ရုပ်ရှင်အပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းများ၊ သိုလှောင်မှု Electrode coating၊ Sputtering coating၊ Surface coating၊ Glass coating လုပ်ငန်း။ |
တိုက်တေနီယမ်ပစ်မှတ်၏ ဓာတုဗေဒလိုအပ်ချက်များ
| ASTM B265 | GB/T 3620.1 | JIS H4600 | ဒြပ်စင်အကြောင်းအရာ(≤wt%) | ||||||
| N | C | H | Fe | O | တခြားသူတွေ | ||||
| တိုက်တေနီယမ်စစ်စစ် | Gr.1 | TA1 | အတန်း ၁ | ၀.၀၃ | ၀.၀၈ | ၀.၀၁၅ | ၀.၂၀ | ၀.၁၈ | / |
| Gr.2 | TA2 | အတန်း ၂ | ၀.၀၃ | ၀.၀၈ | ၀.၀၁၅ | ၀.၃၀ | ၀.၂၅ | / | |
| တိုက်တေနီယမ်အလွိုင်း | Gr.5 | TC4Ti-6Al-4V | အတန်း၆၀ | ၀.၀၅ | ၀.၀၈ | ၀.၀၁၅ | ၀.၄၀ | ၀.၂ | အယ်လ်-၅.၅-၆.၇၅ V:3.5-4.5 |
| Gr.7 | TA9 | အတန်း ၁၂ | ၀.၀၃ | ၀.၀၈ | ၀.၀၁၅ | ၀.၃၀ | ၀.၂၅ | Pd:0.12-0.25 | |
| Gr.12 | TA10 | Class60E | ၀.၀၃ | ၀.၀၈ | ၀.၀၁၅ | ၀.၃၀ | ၀.၂၅ | မို-၀.၂-၀.၄ နီ-၀.၆-၀.၉ | |
အခန်းအပူချိန်တွင် Longitudinal စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ
| တန်း | ဆန့်နိုင်အားRm/MPa(>=) | အထွက်နှုန်းRp0.2(MPa) | ရှည်လျားခြင်း။A4D(%) | ဧရိယာလျှော့ချZ(%) |
| Gr1 | ၂၄၀ | ၁၄၀ | 24 | 30 |
| Gr2 | ၄၀၀ | ၂၇၅ | 20 | 30 |
| Gr5 | ၈၉၅ | ၈၂၅ | 10 | 25 |
| Gr7 | ၃၇၀ | ၂၅၀ | 20 | 25 |
| Gr12 | ၄၈၅ | ၃၄၅ | 18 | 25 |
တိုက်တေနီယမ် Sputtering ပစ်မှတ်များ
တိုက်တေနီယမ်ရေပက်ပစ်မှတ်၏ ဘုံအရွယ်အစား- Φ100*40၊ Φ98*40၊ Φ95*45၊ Φ90*40၊ Φ85*35၊ Φ65*40 စသည်တို့။
ဖောက်သည်များ၏ တောင်းဆိုချက် သို့မဟုတ် ပုံများအတိုင်း စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သည်။
ပစ်မှတ်လိုအပ်ချက်များ- မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှု၊ တူညီသောသလင်းကျောက်စေ့များနှင့် ကောင်းသောကျစ်လစ်မှု။
သန့်ရှင်းမှု- 99.5%, 99.95%, 99.98%, 99.995%.
တိုက်တေနီယမ် ပစ်မှတ် ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်
တိုက်တေနီယမ်ရေမြှုပ်--- တိုက်တေနီယမ်ရေမြှုပ်သို့ ရောစပ်ပြီး---စမ်းသပ်---အစပ်ကို ဖြတ်တောက်ခြင်း--- ဖောက်ထွင်းခြင်း--- လှိမ့်ခြင်း---အခွံခွာခြင်း-- ဖြောင့်တန်းခြင်း---အီလက်ထရစနစ် ချို့ယွင်းချက်ရှာဖွေရေး---ထုပ်ပိုးခြင်း
တိုက်တေနီယမ်ပစ်မှတ်အင်္ဂါရပ်များ
1. Low Density နှင့် High Specification Strength
2. Excellent Corrosion Resistance
3. အပူ၏သက်ရောက်မှုကို ကောင်းစွာခံနိုင်ရည်ရှိသည်။
4. Cryogenics ပိုင်ဆိုင်မှုအတွက် အထူးကောင်းမွန်သည်။
5. သံလိုက်မဟုတ်သော နှင့် အဆိပ်မရှိသော
6. ကောင်းသောအပူဓာတ်ဂုဏ်သတ္တိများ
7. Elasticity နိမ့်သော Modulus
ဆက်စပ်ထုတ်ကုန်များ
-
Niobium ပစ်မှတ်
ကုန်ပစ္စည်းကန့်သတ်ချက်များ သတ်မှတ်ချက်များ အကြောင်းအရာ ASTM B393 9995 စက်မှုလုပ်ငန်းအတွက် သန့်စင်သော နီအိုဘီယမ်ပစ်မှတ် စံ ASTM B393 သိပ်သည်းဆ 8.57g/cm3 သန့်ရှင်းမှု ≥99.95% အရွယ်အစား ဖောက်သည်၏ပုံများအတိုင်း စစ်ဆေးခြင်း ဓာတုဖွဲ့စည်းမှုစမ်းသပ်ခြင်း၊ စက်မှုစမ်းသပ်ခြင်း၊ Ultrasonic စစ်ဆေးခြင်း၊ အသွင်အပြင် 100 R24 အရွယ်အစား 1004 ထောက်လှမ်းခြင်း , R04261 Surface polishing, grinding Technique sintered, rolled, forged Feature High temperature resi...
-
မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုအဝိုင်းပုံသဏ္ဍာန် 99.95% Mo ပစ္စည်း 3N5 ...
ကုန်ပစ္စည်း ကန့်သတ်ချက်များ အမှတ်တံဆိပ်အမည် HSG သတ္တု မော်ဒယ်နံပါတ် HSG-moly ပစ်မှတ် အဆင့် MO1 အရည်ပျော်မှတ်(℃) 2617 လုပ်ဆောင်ခြင်း Sintering/ Forged Shape အထူးပုံသဏ္ဍာန် အစိတ်အပိုင်းများ ပစ္စည်း သန့်စင်သော မိုလီဘဒင်နမ် ဓာတုဖွဲ့စည်းမှု Mo:> =99.95% လက်မှတ် ISO9001:2015 Standard ASTM B386 မျက်နှာပြင် တောက်ပမှု Surface Density 10.28g/cm3 Color Metallic Luster Purity Mo:> =99.95% Application PVD coating film , ion pl...
-
တန်တလမ် ပစ်မှတ်
ကုန်ပစ္စည်း ကန့်သတ်ချက်များ ကုန်ပစ္စည်းအမည်- သန့်စင်မှုမြင့်မားသော တန်တလမ်ပစ်မှတ် သန့်စင်သော တန်တလမ်ပစ်မှတ် ပစ္စည်း တန်တလမ် သန့်ရှင်းမှု 99.95% min သို့မဟုတ် 99.99% min အရောင် တောက်ပြောင်သော ငွေရောင်သတ္တုသတ္တု။အခြားအမည် Ta ပစ်မှတ် Standard ASTM B 708 အရွယ်အစား Dia >10mm * အထူ >0.1mm Shape Planar MOQ 5pcs ပေးပို့ချိန် 7ရက် အသုံးပြုထားသော Sputtering Coating Machines ဇယား 1- ဓာတုဗေဒဖွဲ့စည်းမှု ...
-
အဖြိုက်နက်ပစ်မှတ်
ကုန်ပစ္စည်း ကန့်သတ်ချက်များ ကုန်ပစ္စည်းအမည် Tungsten(W)sputtering ပစ်မှတ် အဆင့် W1 ရရှိနိုင်သော သန့်ရှင်းမှု(%) 99.5%,99.8%,99.9%,99.95%,99.99% ပုံသဏ္ဍာန်- ပန်းကန်ပြား၊ အဝိုင်း၊ ရိုတရီ၊ ပိုက်/ပြွန် Specification ဖောက်သည်များ တောင်းဆိုသည့်အတိုင်း Standard ASTM B760- 07,GB/T 3875-06 သိပ်သည်းဆ ≥19.3g/cm3 အရည်ပျော်မှတ် 3410°C အနုမြူထုထည် 9.53 cm3/mol ခုခံမှုအပူချိန် ဖော်ကိန်း 0.00482 I/℃ Sublimation အပူ 847.8 kJ/mol(25℃) ငုပ်လျှိုးနေသော အပူ 6.40.1 ±3 kJ/mol...
